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2023届衡水金卷先享题 信息卷 全国乙卷B 理综(四)4试题

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7.中国芯片蚀刻技术国际领先。NF3用于进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体,在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应的微观示意图如下,下列说法正确的是A.该反应前后原子数目发生改变B.该反应前后元素的种类不变C.空气中物质丁的质量分数为78%D.反应后生成的丙和丁微粒数之比为1:1

B.水只能通过自由扩散的方式被细胞吸收,可用于参与有氧呼吸的第二阶段C.种子在晒干和烧烤的过程中失去的主要是自由水,燃烧后剩余的主要是无机盐D.如果土壤中缺乏镁元素,则提取和分离叶绿体中色素后得到的结果是2条色带变窄

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